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芯片加工廠的污水處理方法

來源:本站

  芯片在整個加工制作的過程中是極其復雜的,其中包括芯片設計、晶片制作、封裝制作、測試等幾個環節,每一步對于芯片的清洗水的水質要求極其高,在半導體芯片加工廠將會有大量的工業污水排放,今天來了解一下關于:芯片加工廠的污水處理方法。

芯片加工廢水,污水處理方法

  芯片加工廠的廢水主要來源于:集成電路芯片制造生產工藝復雜,包括硅片刻蝕、清洗、化學氣相沉積等工序反復交叉,生產中使用了大量的化學試劑如HF、H2SO4、NH3?H2O等。

  因此芯片加工廠的廢水可以分為含氨廢水、CMP研磨廢水、酸堿廢水、含氟廢水、含氮廢水、酸堿廢水。

  芯片加工廠的污水處理工藝可分為以下幾種:

  1、濃氨吹脫吸收工藝—含氟廢水兩階段沉淀工藝(含氟廢水與CMP研磨廢水混合處理)—三級酸堿中和處理工藝;

  2、出水氟離子濃度達到

  3、水氟離子濃度可控制在10mg/L以下:二級反應+沉淀+一級反應+沉淀的兩階段沉淀反應;

  4、兩級反應池、酸堿原液直接投加,運行出水不穩定且藥劑消耗量很大;

  對于不同的芯片在加工的過程中采用的原材料是不一樣的,因此排放出來的廢水含有的污染物成分是不一樣的,成分不一樣采用的水處理工藝、處理的水處理藥劑就會有所不同。
 

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